1、研究背景

世界各地的博物馆、展览馆等场所会通常都会悬挂禁止拍照的标志，用于保护参展文物，避免一些不可逆的破坏。主要原因是日常拍照时的闪光灯光谱范围覆盖红外光、400至700纳米的可见光和低于400纳米的紫外光。其中紫外光对文物造成的破坏最大，由于紫外光能量相对较大，容易被照射物体吸收，从而造成变质。红外光虽然能量较低，但因其特性产生的热效应会使古玩字画中的纸张、木制品等富含纤维的部分加速脱水开裂。

由于古代文物大多包含木材、植物、丝绸等物质，这部分物质属于高分子结构，均含有纤维素或蛋白质，所以极易在光和电的影响下发生结构的损坏造成变质。展物中的编织物、陶瓷和建筑表面的染料、彩漆也会在光照下发生褪色、变色等问题。根据相关研究发现，波长为365纳米的紫外光对古代常用染料中的靛玉红有明显的降解作用，且使用无机颜料的字画也容易受到闪光灯的影响，比如，文物中常见的亮黄色颜料，因其含有硫化镉会在可见光作用下被渐渐被氧化成硫酸根，最终造成褪色、变色。因此，对于文物中的木质建筑物、字画、丝绸制品、壁画等文物及其他对光照敏感的藏品，应禁止使用闪光灯拍照。然而，博物馆参展活动中的不文明情况时有发生，由于人力物力等客观问题，偷拍现象防不胜防，给博物馆的文物保护工作带来较大的压力，由于难以制止使用闪光灯拍照，极易对文物造成不可逆的破坏，现有技术难以解决这一难题。